VXMTAL多管渦旋振蕩器
          
			
          
				
          VXMTAL多管渦旋振蕩器
          
				
          
					
          控制方式：模擬控制
          
工作運行方式：連續(xù)運行
          
圓周直徑：3.6 mm
          
速度范圍：1200 rpm – 2400 rpm
          
					分類：渦旋振蕩器
				
          
			
          
		
          
	
          

          

          
	
          
		
          
			
          
				
          VXMTAL多管渦旋振蕩器產(chǎn)品介紹
          
			
          
			
          
				
          
	
          
		奧豪斯多管渦旋振蕩器無需手持，是高通量處理樣品的理想選擇，可選擇用于振蕩直徑10至29mm樣品管的泡沫架。堅固耐用的吸盤腳防止振蕩器在工作臺上移動，確保實驗安全。數(shù)顯控制型號為需要重復(fù)實驗結(jié)果的應(yīng)用提供精確的速度控制，模擬控制型號則為經(jīng)濟(jì)之選。
          
	
          
		產(chǎn)品特點
          
	
          
		
          
			應(yīng)用
          
		
          
			懸浮、基因分型、臨床實驗室中高吞吐量的DNA和RNA測試
          
		
          
			顯示屏
          
		
          
			獨立的LED顯示屏分別顯示速度和時間，操作人員可同時查看兩個參數(shù)的值。
          
		
          
			電源
          
		
          
			含可拆開的3芯線纜和插頭。
          
		
          
			結(jié)構(gòu)
          
		
          
			標(biāo)配不銹鋼泡沫試管架（直徑12 mm x 50），用于支撐直徑10-29mm渦旋試管的泡沫架。
			
          
				技術(shù)參數(shù)
          
			
          
				
					
          
						
							控制方式
						
							模擬控制
					
          
					
          
						
							工作運行方式
						
							連續(xù)運行
					
          
					
          
						
							圓周直徑
						
							3.6 mm
					
          
					
          
						
							速度范圍
						
							1200 rpm – 2400 rpm
					
          
					
          
						
							容量
						
							4.5 kg
					
          
					
          
						
							尺寸
						
							40.6 cm x 24.1 cm x 38.4 cm (高x長x寬)
					
          
					
          
						
							凈重
						
							20.3 kg
					
          
					
          
						
							電源 (2)
						
							230V，1A，50/60Hz
					
          
					
          
						
							能耗
						
							100 W
					
          
					
          
						
							安全認(rèn)證
						
							CE;  TUV
					
          
					
          
						
							托盤尺寸 (LxW)
						
							18.4 cm x 31.1 cm
					
          
					
          
						
							工作環(huán)境
						
							4°C – 40°C, 20% – 85%RH, 非冷凝